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1.热处理对磁控溅射法制备p-ITO(40 nm)薄膜特性的影响

作者：王效坤 ; 朴祥秀 ; 孟雷 ; 房伟华 ; 刘飞

关键词：花斑不良 ; 磁控溅射 ; 方块电阻 ; 透过率 ; 薄膜晶体管

年：2019

2.小尺寸TFT-LCD GOA显示屏不良横纹的研究

作者：高英强 ; 陈华斌 ; 李兴亮 ; 刘洋 ; 宋勇志

关键词：TFT-LCD ; 窄边框 ; GOA ; ITO电化学腐蚀 ; 横纹不良

年：2019

3.低阻高透柔性导电膜制作技术

作者：张红

关键词：低阻 ; 高透 ; 柔性导电膜 ; 方阻 ; 透过率

年：2019

4.ITO退火工艺对HADS型TFT-LCD透过率的影响

作者：安晖 ; 操彬彬 ; 栗芳芳 ; 叶成枝 ; 杨增乾 ; 彭俊林 ; 刘增利 ; 吕艳明 ; 陆相晚 ; 张敏 ; 陈婷婷 ; 金珍 ; 向康 ; 金镇满 ; 李恒滨

关键词：氧化铟锡 ; 退火 ; 薄膜晶体管 ; 透过率

年：2019

5.电沉积Sn对In_2O_3薄膜透光和导电性能的影响

作者：戴学诚 ; 尹航 ; 宫震 ; 马柯鑫 ; 李瑞武 ; 王艳雪

关键词：In_2O_3薄膜 ; Sn/In_2O_3复合薄膜 ; 电沉积 ; 透光率 ; 电阻率

年：2019

6.基于缺陷对光子晶体滤波特性的研究

作者：刘瑞娟 ; 刘圆圆 ; 王子仪 ; 李睿

关键词：光子晶体 ; 滤波特性 ; ITO膜 ; 缺陷厚度 ; 透射峰

年：2018

7.金属薄膜的缺陷模对一维光子晶体滤波特性的影响

作者：刘圆圆 ; 李旭峰 ; 赵亚丽 ; 彭伟 ; 杨雯

关键词：薄膜 ; 光子晶体 ; 滤波器 ; 缺陷 ; 时域有限差分法

年：2018

8.基于正交试验评价退火工艺对P-ITO薄膜光电性能的影响

作者：刘飞 ; 张浩 ; 朱昊 ; 房伟华 ; 王效坤 ; 孟雷 ; 朴祥秀

关键词：P-ITO薄膜 ; 方块电阻 ; 退火处理 ; 透过率 ; 磁控溅射

年：2019

9.ITO透明导电薄膜的射频磁控溅射制备

作者：丁景兵 ; 蔡长龙 ; 邵雨

关键词：射频磁控溅射 ; 快速热退火 ; ITO薄膜 ; 光电特性

年：2018

10.磁控溅射和能量过滤磁控溅射TiO_2薄膜结构和光学性质的对比研究

作者：赵遵杰 ; 王朝勇 ; 吴丹 ; 张世慧 ; 夏雨 ; 姚宁

关键词：磁控溅射 ; 能量过滤磁控溅射 ; TiO2薄膜 ; 光学性质 ; 椭偏光谱仪

年：2018

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