硅片传输单元洁净系统的研制

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英文篇名：Development of Wafer Handling Cell Clean System 中文刊名：半导体技术 英文刊名：Semiconductor Technology 作者：丛明 ; 杜宇 ; 沈宝宏 英文作者：CONG Ming ; DU Yu ; SHEN Bao-hong (Key Laboratory for Precision and Non-Traditional Machining Technology of Ministry of Education ; Dalian University of Technology ; Dalian 116023 ; China) 中文关键词：硅片传输单元 ; 洁净系统 ; 结构设计 英文关键词：wafer handling cell ; clean system ; structure design 出版日期：2006-09-03 机构：大连理工大学精密与特种加工教育部重点实验室,大连理工大学精密与特种加工教育部重点实验室,大连理工大学精密与特种加工教育部重点实验室 辽宁大连116023,辽宁大连116023,辽宁大连116023 年：2006 期：09 出版单位：半导体技术

摘要

在集成电路制造的硅片传输过程中,硅片传输机器人等机械设备的运动会产生尘埃粒子污染硅片。为解决这一问题,设计并研制了硅片传输单元的洁净系统,分析了该洁净系统的设计方案和结构设计,计算了它的送回风管直径,并用计算流体力学的方法,对洁净系统内部的硅片传输机器人区域进行了流场的模拟分析。该洁净系统已达到设计要求。
Airborne particles may be created by the moving of mechanical equipment such as wafer handling robot in the process of wafer handling of the IC manufacture. To solve this problem, the clean system of the wafer handling cell was designed and developed. Its structure design and parameter calculations were carried out. And the airflow pattern was simulated using a computa- tional fluid dynamics (CFD) method. The performance indices were implemented satisfactorily.

引文

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