H62黄铜在电解质溶液中的脱锌腐蚀机制研究

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• 作者：王超钟庆东周国治鲁雄刚陈朝轶
• 会议时间：2008-08-01
• 关键词：光电化学 ; Mott-Schottky分析 ; H62黄铜 ; 脱锌腐蚀机制 ; 优先溶解 ; 溶解-再沉积
• 作者单位：王超,钟庆东,鲁雄刚(上海大学材料科学与工程学院,上海 200072)周国治(上海大学材料科学与工程学院,上海 200072 北京科技大学冶金与生态工程学院,北京 100083)陈朝轶(上海大学材料科学与工程学院,上海 200072 贵州大学材料科学与冶金工程学院,贵州 贵阳 550003)
• 母体文献：2008年全国冶金物理化学学术会议论文集
• 会议名称：2008年全国冶金物理化学学术会议
• 会议地点：贵阳
• 主办单位：中国有色金属学会
• 语种：chi

摘要

应用光电化学方法和Mott-Schottky分析技术研究了H62黄铜在0.1%wt硫酸钠和氯化钠两种电解质溶液中的脱锌机制.结果表明,H62黄铜在0.1%wt硫酸钠溶液中为溶解-再沉积的脱锌机制,而在0.1%wt氯化钠溶液中为锌的优先溶解机制.黄铜脱锌前,由于氯离子的侵蚀,表面氧化亚铜层的光量子效率降低.在硫酸钠溶液中,黄铜脱锌前后表面膜层均为p型半导体;而在氯化钠中,黄铜脱锌前表面膜层为p型半导体,脱锌后表面膜层为n型半导体.