植酸自组装膜对黄铜的缓蚀作用

详细信息    查看全文 | 下载全文 | 推荐本文 |

• 作者：徐群杰万宗跃齐航周小金丁斯婧
• 会议时间：2008-07-01
• 关键词：植酸自组装膜 ; 黄铜 ; 缓蚀作用
• 作者单位：上海电力学院环境工程系上海高校电力腐蚀控制及应用电化学重点实验室上海200090
• 母体文献：第十五届全国缓蚀剂学术会议、2008全国防锈技术交流年会联合大会论文集
• 会议名称：第十五届全国缓蚀剂学术会议、2008全国防锈技术交流年会联合大会
• 会议地点：沈阳
• 主办单位：中国腐蚀与防护学会
• 语种：chi

摘要

用动电位伏安法和光电化学方法研究了植酸自组装单分子膜(SAMs)对黄铜的缓蚀作用。结果表明,植酸分子易在黄铜表面形成稳定的植酸SAMs,光电化学测试黄铜表面膜显示p-型光响应,光响应来自电极表面的Cu2O层,植酸SAMs的形成使其光响应明显减弱,并有有良好的缓蚀效果,这与交流阻抗得到的结果一致。