计算机硬盘系统的表面纳米级抛光研究

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• 作者：雒建斌潘国顺雷红高峰王亮亮姜小平
• 会议时间：2002-12-01
• 关键词：磁头 ; 纳米级抛光 ; 计算机硬盘 ; 硬盘表面
• 作者单位：雒建斌,潘国顺,雷红,高峰,王亮亮(清华大学摩擦学国家重点实验室(北京))姜小平(国家科技部国际合作司(北京))
• 母体文献：2002年中国机械工程学会年会论文集
• 会议名称：2002年中国机械工程学会年会
• 会议地点：北京
• 主办单位：中国机械工程学会
• 语种：chi

摘要

硬盘以其种种优势在科学领域和生活上得到越来越广泛的应用,同时也不断地促进了相关领域科学技术的迅速发展.本文从摩擦学角度讨论了与硬盘系统相关的基于磁头/盘表面与界面的微/纳米设计和加工的技术与理论的研究进展,并讨论磁头飞行特性与表面形状设计、非均质多组元表面纳米级抛光技术、表面化学-机械抛光技术等的研究发展状况和目前仍然存在的问题.