介质阻挡放电等离子体合成碳纳米管

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• 作者：付亚波张跃飞陈强
• 会议时间：2006-08-01
• 关键词：碳纳米管 ; 介质阻挡放电 ; 等离子体 ; 化学气相沉积 ; Ni催化剂 ; 甲烷 ; 氨气比例
• 作者单位：北京印刷学院,等离子体物理与材料研究室,北京,102600
• 母体文献：第六届全国表面工程学术会议暨首届青年表面工程学术论坛论文集
• 会议名称：第六届全国表面工程学术会议暨首届青年表面工程学术论坛
• 会议地点：兰州
• 主办单位：中国机械工程学会
• 语种：chi

摘要

利用介质阻挡放电等离子体化学气相沉积技术,在蒸镀有13nmNi催化剂层的Si基材上,以CH4为碳源,H2与NH3的混和物为刻蚀和稀释气体,在630和750℃的不同温度条件下合成碳纳米管.实验研究了不同氨气比例条件下碳纳米管的生长情况,并给出了合成碳纳米管的最佳氨气含量区间.SEM和TEM测试发现,所合成的碳纳米管具有竹节型结构,Ni催化剂形貌表明碳纳米管生长符合顶端机制.实验还发现氨气含量对碳纳米管的生长影响很大,并对其原因进行了初步的分析。