薄膜应力研究进展

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• 作者：陈焘罗崇泰
• 会议时间：2006-08-01
• 关键词：薄膜应力 ; 应力形成 ; 应力实验 ; 薄膜生长 ; 晶粒边界 ; 表面能态 ; 晶格错配
• 作者单位：兰州物理研究所,表面工程技术国家重点实验室,兰州,730000
• 母体文献：第六届全国表面工程学术会议暨首届青年表面工程学术论坛论文集
• 会议名称：第六届全国表面工程学术会议暨首届青年表面工程学术论坛
• 会议地点：兰州
• 主办单位：中国机械工程学会
• 语种：chi

摘要

薄膜应力的形成是一个复杂的过程。一般来说薄膜应力起源于薄膜生长过程中的某种结构不完整性(如杂质、空位、晶粒边界、位错等)、表面能态的存在以及薄膜与基体界面间的晶格错配等}。在薄膜形成后,外部环境的变化同样也可能使薄膜内应力发生变化,如热退火效应,使薄膜中的原子产生重排,结构缺陷得以消除(或部分消除),或产生相变和化学反应等,从而引起应力状态的变化。本文主要介绍了薄膜应力形成机理和应力实验的研究进展,并探讨了薄膜应力研究的发展趋势。