预曝光对于连续浮雕微结构制作的影响
- 作者：王多书罗崇泰刘宏开叶自煜
- 会议时间：2006-08-01
- 关键词：光刻胶版 ; 预曝光 ; 连续浮雕微结构 ; 极坐标激光直写法
- 作者单位：兰州物理研究所表面工程国家重点实验室,兰州,730000
- 母体文献：第六届全国表面工程学术会议暨首届青年表面工程学术论坛论文集
- 会议名称：第六届全国表面工程学术会议暨首届青年表面工程学术论坛
- 会议地点：兰州
- 主办单位：中国机械工程学会
- 语种：chi
摘要
简述了预曝光在极坐标激光直写法制作连续浮雕微结构技术中的作用原理及应用,研究了预曝光技术对于连续浮雕微结构制作的影响规律,提出了在极坐标激光直写法制作连续浮雕微结构过程中替代预曝光的方法。
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