用户名: 密码: 验证码:
光刻工艺中预曝光技术机理分析与应用研究
详细信息    查看全文 | 下载全文 | 推荐本文 |
摘要
分析了预曝光技术运用机理,研究了光刻工艺中的预曝光技术.在连续型菲涅尔衍射透镜光刻工艺中,应用了预曝光技术,制作出了较为理想的连续型浮雕结构.

© 2004-2018 中国地质图书馆版权所有 京ICP备05064691号 京公网安备11010802017129号

地址:北京市海淀区学院路29号 邮编:100083

电话:办公室:(+86 10)66554848;文献借阅、咨询服务、科技查新:66554700