等离子体喷涂锆酸钆涂层残余应力的仿真计算

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• 作者：杨加胜钟兴华赵华玉周霞明陶顺衍
• 会议时间：2011-10-25
• 关键词：有限元法 ; 热障涂层 ; 残余应力 ; 等离子体喷涂
• 作者单位：杨加胜(中国科学院特种无机涂层重点实验室,上海 200050 中国科学院上海硅酸盐研究所,上海 200050 中国科学院研究生院,北京 100039)钟兴华,赵华玉,周霞明,陶顺衍(中国科学院特种无机涂层重点实验室,上海 200050 中国科学院上海硅酸盐研究所,上海 200050)
• 母体文献：第十四届国际热喷涂研讨会(ITSS’2011)暨第十五届全国热喷涂年会(CNTSC’2011)论文集
• 会议名称：第十四届国际热喷涂研讨会(ITSS’2011)暨第十五届全国热喷涂年会(CNTSC’2011)
• 会议地点：武汉
• 主办单位：中国表面工程协会
• 语种：chi

摘要

采用有限元模拟计算等离子体喷涂Gd2Zr2O7 涂层在热震过程中结合层/陶瓷层界面附近产生的残余应力,分析热生长氧化物(TGO)厚度和界面粗糙度对应力分布的影响。计算结果显示,结合层/陶瓷层界面波峰和波谷处的应力分布截然不同;光滑的界面上TGO增厚能更显著改变涂层内应力的分布。结合涂层热循环试验结果,涂层断裂剥落源于靠近界面的陶瓷层内,在此基础上,进一步探讨了涂层的失效机理。