低温直流磁控溅射制备金红石相TiO2的研究

详细信息    查看全文 | 下载全文 | 推荐本文 |

• 作者：王明娥马国佳孙刚刘星张林巩水利董闯
• 会议时间：2012-09-13
• 关键词：二氧化钛薄膜 ; 低温直流磁控溅射 ; 晶体结构 ; 表面形貌 ; 摩擦性能
• 作者单位：王明娥,马国佳,刘星,张林(大连理工大学,辽宁大连116024;北京航空制造所高能束流加工技术重点实验室,北京100024)孙刚,巩水利(北京航空制造所高能束流加工技术重点实验室,北京100024)董闯(大连理工大学,辽宁大连116024)
• 母体文献：第四届高能束加工技术国际学术会议论文集
• 会议名称：第四届高能束加工技术国际学术会议
• 会议地点：青岛
• 主办单位：中国机械工程学会
• 语种：chi
• 分类号：TB3;TG1

摘要

利用直流磁控溅射方法在硅片和钛合金基底上沉积制备了二氧化钛薄膜.主要研究了变化的基片偏压对薄膜性能的影响.用XRD和SEM分析了薄膜的晶体结构和表面形貌,利用纳米压痕仪,划痕仪,摩擦试验机分别测试了薄膜的纳米硬度,膜基界面结合力和摩擦性能.结果表明,本方法在不加热基片的条件下制备出表面光滑致密,力学性能和摩擦学性能良好的金红石相TiO2薄膜.