脉冲偏压电弧离子镀Zr-Me-N(Me=Cr,Al,Cu)薄膜性能研究

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• 作者：张林林国强马国佳魏科科段仲伟
• 会议时间：2012-09-13
• 关键词：脉冲偏压电弧离子镀 ; 锆基三元氮化物薄膜 ; 力学性能 ; 摩擦系数
• 作者单位：张林,马国佳(大连理工大学三束材料改性教育部重点实验室,辽宁大连116024;北京航空制造工程研究所高能束流加工技术重点实验室,北京100024)林国强,魏科科,段仲伟(大连理工大学三束材料改性教育部重点实验室,辽宁大连116024)
• 母体文献：第四届高能束加工技术国际学术会议论文集
• 会议名称：第四届高能束加工技术国际学术会议
• 会议地点：青岛
• 主办单位：中国机械工程学会
• 语种：chi
• 分类号：TB3;TQ1

摘要

利用脉冲偏压电弧离子镀在高速钢和Si基体上沉积锆基三元氮化物薄膜Zr-Me-N(Me=Al,Cr,Cu).采用EPMA、XRD、SEM、接触角、纳米压痕、划痕仪以及摩擦磨损试验机分别研究薄膜的组分、结构、润湿性、力学性能和摩擦学性能.研究表明:Zr-Cr-N和Zr-Cu-N薄膜为单一相fcc Bl(NaCl)结构;薄膜具有良好的结合力和较高的水接触角;ZrN中掺入过量的Al导致薄膜的力学性能降低.ZvCu-N薄膜显微硬度最高,达到35.5GPa,而且纳米复合Zr-Cu-N薄膜能有效地降低摩擦系数.