电压对Q235低碳钢等离子体电解硼碳共渗过程中光谱特性的影响

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• 作者：刘润周颖李伟王彬吴杰薛文斌
• 会议时间：2015-07-18
• 关键词：低碳钢 ; 硼碳共渗处理 ; 液相等离子体电解渗方法 ; 光发射谱 ; 电压参数
• 作者单位：刘润(镇江船艇学院,江苏镇江212000;北京师范大学核科学与技术学院射线束技术与材料改性教育部重点实验室,北京100875)周颖,李伟(镇江船艇学院,江苏镇江212000)王彬,吴杰,薛文斌(北京师范大学核科学与技术学院射线束技术与材料改性教育部重点实验室,北京100875;北京市辐射中心,北京100875)
• 母体文献：第十一次全国热处理大会论文集
• 会议名称：第十一次全国热处理大会
• 会议地点：太原
• 主办单位：中国机械工程学会热处理分会
• 语种：chi
• 分类号：TN2;TL6

摘要

采用液相等离子体电解渗方法,在280 V和300 V电压下对Q235低碳钢进行硼碳共渗处理,分析了渗层的显微组织和相成分.研究不同电压下硼碳共渗过程的光发射谱(OES),并评估了等离子体放电区的电子温度、电子浓度特征参数.结果表明,等离子体电解硼碳共渗过程中放电区的电子浓度大于8×1022 m-3,达到局部热平衡状态.电子温度约为3000 K~12000 K,等离子体放电为活性碳原子和硼原子在钢基体中快速扩散创造了高温环境.随着电压的升高,等离子体放电变得剧烈,电子温度明显增加,Q235低碳钢表面岛状硼化物颗粒逐渐增大相连接,形成较厚的渗硼层.