植酸自组装膜对白铜缓蚀作用的光电化学研究

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• 作者：徐群杰万宗跃费琳印仁和周小金
• 会议时间：2008-07-01
• 关键词：白铜材料 ; 铜材防腐 ; 复层保护 ; 植酸分子膜
• 作者单位：徐群杰,费琳,周小金(上海电力学院能源与环境工程学院上海高校电力腐蚀控制与应用电化学重点实验室,上海,200090)万宗跃(上海电力学院能源与环境工程学院上海高校电力腐蚀控制与应用电化学重点实验室,上海,200090;上海大学理学院化学系上海,200444)印仁和(上海大学理学院化学系上海,200444)
• 母体文献：2008年全国腐蚀电化学及测试方法学术交流会论文集
• 会议名称：2008年全国腐蚀电化学及测试方法学术交流会
• 会议地点：沈阳
• 主办单位：中国腐蚀与防护学会
• 语种：chi

摘要

本文用动电位伏安法和光电化学方法研究了植酸自组装单分子膜(SAMs)对白铜B30的缓蚀作用。结果表明,植酸分子易在白铜B30表而形成稳定的植酸SAMs,光电化学测试白铜B30表面膜显示p-型光响应,光响应来自电极表面的Cu2O层,植酸SAMs的形成使其光响应明显减弱,有良好的缓蚀效果,这与交流阻抗得到的结论一致,同时微分电容曲线表明植酸SAMs的形成改变了电极双电层结构,使得电容值减小,其缓蚀机理为化学吸附过程。