超低压等离子喷涂YSZ涂层显微组织结构研究

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• 作者：杨震晓倪立勇戚鹏马康智杨杰吴朝军
• 会议时间：2014-10-01
• 关键词：氧化钇稳定氧化锆涂层 ; 超低压等离子喷涂工艺 ; 柱状晶结构 ; 表面质量
• 作者单位：航天材料及工艺研究所,北京100076
• 母体文献：第十七届国际热喷涂研讨会暨第十八届全国热喷涂年会(CNTSC`2014)论文集
• 会议名称：第十七届国际热喷涂研讨会暨第十八届全国热喷涂年会(CNTSC`2014)
• 会议地点：成都
• 主办单位：中国表面工程协会热喷涂专业委员会
• 语种：chi
• 分类号：TG1;TB3

摘要

采用超低压等离子喷涂技术(Plasma Spray-Physical Vapor Deposition,PS-PVD)制备了YSZ涂层,对涂层的显微组织结构进行了分析,并对比了粘结层表面不同预处理对于YSZ涂层生长趋势的影响规律.研究结果表明:MCrAlY涂层致密,孔隙率为1.5%,结合强度达83.2MPa;YSZ涂层呈现明显的柱状晶结构.粘结层表面粗糙度对柱状晶生长方向影响较大,表面粗糙度越小,柱状晶生长方向越趋于一致,基本沿法向生长.在超低压状态下,涂层不存在“遮蔽效应”,可实现异型面涂层制备.