在移动NiW基带上制备钇系涂层导体隔离层的研究

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• 作者：刘慧舟杨坚张华古宏伟
• 会议时间：2007-10-19
• 关键词：钇系涂层导体 ; 连续沉积 ; 电子束蒸发 ; 磁控溅射 ; 超导材料
• 作者单位：北京有色金属研究总院 超导材料研究中心 北京 1000881
• 母体文献：中国有色金属学会第十二届材料科学与合金加工学术年会论文汇编
• 会议名称：中国有色金属学会第十二届材料科学与合金加工学术年会
• 会议地点：张家界
• 主办单位：中国有色金属学会
• 语种：chi

摘要

钇系涂层导体,是在柔性Ni合金基带上制备YBCO超导层形成的带材。与传统铋系高温超导材料相比,钇系超导材料在强磁场下临界电流不会急剧下降,可承载更大的电流,而且材料成本更低,因此具有替代铋系超导材料和实现商品化的巨大潜力。制备钇系涂层导体时,需要在Ni合金基底与YBCO超导层之间加入立方织构的氧化物隔离层,其目的是阻止基底高温氧化生成NiO、阻止YBCO和Ni合金之间发生互扩散和诱导YBCO超导层形成织构。近年来。制备隔离层的研究已经发展到动态与长带化的阶段,本论文工作即是在这方面的积极探索。本文采用电子束蒸发和磁控溅射两种工艺在移动的Niw合金基带上制备了Y2O3隔离层,研究了镀膜过程中基带移动速度对隔离层性能的影响,同时详细比较了两种镀膜方法。利用扫描电镜(SEM)、X射线衍射(XRD)等手段对Y2O3隔离层进行了分析,结果表明,通过严格控制工艺条件,两种方法都能在移动NiW合金基带上制备高立方织构、表面致密光滑的Y2O3隔离层。研究发现,电子束蒸发工艺中,理想的基带移动速度是0.4mm/s-1.0mm/sec;磁控溅射工艺中,适宜的基带移动速度应该是0.5mm/s-2.0mm/sec。