高性能电子溅射靶的制备

详细信息    查看全文 | 下载全文 | 推荐本文 |

• 作者：吴胜文葛启录褚征军
• 会议时间：2002-11-01
• 关键词：电子溅射靶 ; 热等静压 ; 热压工艺 ; 相变光盘 ; 光电子材料
• 作者单位：安泰科技股份有限公司
• 母体文献：第三届北京冶金年会论文集
• 会议名称：第三届北京冶金年会
• 会议地点：北京
• 主办单位：中国金属学会
• 语种：chi

摘要

大尺寸、高性能电子溅射靶是电子及信息产业中不可或缺的材料,电子靶材一直是各国优先发展的高新技术材料.此光盘膜用靶材材料极易在制备过程中碎裂,并且密度越高,裂纹倾向越大.因此,高密度、高纯度、大尺寸是相互矛盾的,难以达到完美的统一.通过选择合适的成分配比、粉原料的预处理以及合理的热压工艺以及热等静压工艺制度,解决了制备过程中易出现裂纹的难题,制备了大尺寸(直径200mm)、高相对密度(大于90﹪)、高纯度、密度分布均匀和组成相满足使用要求的靶材.经镀膜考核,靶材各项性能指标能够达到镀膜使用要求,与国外同类产品相当.