硅片平坦表面的表面粗糙度测量方法
- 标准编号：GB/T 29505-2013
- 其他标准名称：Test method for measuring surface roughness on planar surfaces of silicon wafer
- 标准类型：国家标准
- 发布日期：2013-05-09
- 实施日期：2014-02-01
- 标准分类：方法
- CCS：H80
- ICS：29.045
- 起草单位：有研半导体材料股份有限公司、中国有色金属工业标准计量质量研究所
- 起草人：孙燕、李莉、卢立延、翟富义、向磊
- 归口单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会
- 主管单位：国家标准化管理委员会
- 执行单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会
- 标准状态：有效
- 页数：0
- 发布年份：2013
- 部分代替标准：,
- 适用范围：本标准提供了硅片表面粗糙度测量常用的轮廓仪、干涉仪、散射仪三类方法的测量原理、测量设备和程序,并规定了硅片表面局部或整个区域的标准扫描位置图形及粗糙度缩写定义。本标准适用于平坦硅片表面的粗糙度测量,也可用于其他类型的平坦晶片材料,但不适用于晶片边缘区域的粗糙度测量。本标准不适用于带宽空间波长≤10 nm的测量仪器。
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