化学织构化硅表面OTS自组装膜形貌及性能表征

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• 出版年：2007
• 作者：庞重军；于波；宋仕永；巩育军
• 单位1：茂名学院
• 出生年：1971
• 学历：博士
• 职称：副教授
• 语种：中文
• 作者关键词：薄膜；自组装；OTS；形貌；性能表征
• 起始页：112
• 总页数：4
• 经费资助：广东省自然科学基金项目（7010253）；茂名学院博士启动基金项目（208032）.
• 刊名：润滑与密封
• 是否内版：否
• 刊频：月刊
• 创刊时间：1976
• 主管单位：中国科学技术协会
• 主办单位：中国机械工程学会摩擦学分会；广州机械科学研究院
• 主编：贺石中
• 地址：广州市黄埔区茅岗路828号
• 邮编：510700
• 电子信箱：webmaster@gmeri.com；rhymf@gmeri.com；rfbjb@163.net
• 网址：http://www.rhymf.com.cn
• 卷：32
• 期：11
• 期刊索取号：P830.6 141-4
• 数据库收录：中文核心期刊；中国科技论文统计刊源；《中国学术期刊文摘》源刊；CA收录期刊
• 核心期刊：中文核心期刊

摘要

用40%NH₄F对Si（100）表面进行化学织构化，然后用十八烷基三氯硅烷（OTS）进行分子自组装，在织构化表面谷底区域形成液体凝聚（LC）相分子薄膜。织构化表面的典型山丘直径约30nm，高约7nm；典型的LC相OTS单层膜原子力显微镜（AFM）厚度约2.3nm。随着反应时间的延长，OTS薄膜的IC相面积覆盖率逐渐增加，30min后达到70%左右的平衡值。OTS组装8min后的表面静态接触角即达108°左右，且表面接触角不再随反应时间的延长或LC相面积覆盖率的增加而明显变化。组装的OTS薄膜能显著改善织构化硅表面的摩擦学性能。