等离子体微弧氧化技术及其发展

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• 出版年：2006
• 作者：赵玉峰；杨世彦；韩明武
• 单位1：哈尔滨工业大学电气工程及自动化学院
• 单位2：大庆石油学院电气信息工程学院
• 出生年：1974
• 学历：博士研究生
• 职称：讲师
• 语种：中文
• 作者关键词：等离子体微弧氧化；表面改性；陶瓷膜层；应用
• 起始页：102
• 总页数：3
• 刊名：材料导报
• 是否内版：否
• 刊频：月刊
• 创刊时间：1987
• 主办单位：科学技术部西南信息中心
• 主编：彭丹
• 地址：重庆市渝中区胜利路132号
• 邮编：400013
• 电子信箱：matreved@163.com；mat-rev@163.com；matreved@swic.ac.cn
• 网址：http://www.mat-rev.com
• 卷：20
• 期：6
• 期刊索取号：P822.06 432
• 数据库收录：全国中文核心期刊；中国科学引文数据库来源期刊；中国科技论文统计源期刊
• 核心期刊：全国中文核心期刊

摘要

等离子体微弧氧化技术是一种直接在有色金属表面原位生长陶瓷膜层的材料表面改性技术。详细介绍了等离子体微弧氧化技术的发展历史和研究现状，以及应用微弧氧化技术制备陶瓷膜的基本原理和制备方法，对微弧氧化技术的特点及应用进行了总结，并阐述了微弧氧化技术的研究动态和存在的问题。