含铌锆合金氧化膜的研究进展

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• 出版年：2009
• 作者：王志远；范洪远；王鹏
• 单位1：四川大学制造科学与工程学院
• 出生年：1983
• 学历：硕士研究生
• 语种：中文
• 作者关键词：锆合金；铌；氧化膜
• 起始页：85
• 总页数：4
• 刊名：材料导报
• 是否内版：否
• 刊频：半月刊
• 创刊时间：1987
• 主管单位：重庆西南信息有限公司（原科学技术部西南信息中心）
• 主办单位：重庆西南信息有限公司（原科学技术部西南信息中心）
• 主编：张明
• 地址：重庆市渝北区洪湖西路18号
• 邮编：401121
• 电子信箱：matzhubian@gmail.com；mat-rev@163.com；matreved@163.com；maeditor@gmail.com
• 网址：http://www.mat-rev.com
• 卷：23
• 期：17
• 期刊索取号：P822.06 432
• 数据库收录：全国中文核心期刊；中国科学引文数据库来源期刊；中国科技论文统计源期刊
• 核心期刊：全国中文核心期刊

摘要

介绍了含铌新型锆合金氧化动力学曲线的特点及氧化膜结构方面的研究成果，并与Zr-4合金进行了对比，在此基础上归纳分析了锆合金氧化物t→m转变和晶粒转变（柱状→等轴状）的特点、内在关系及发生的可能原因，指出了含铌锆合金中沉淀物的种类以及其对锆合金氧化膜的影响。