工艺参数对等离子合成TiN层相结构的影响

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• 出版年：2010
• 作者：王成磊；高原；卜根涛；申罡
• 单位1：桂林电子科技大学
• 出生年：1985
• 学历：硕士研究生
• 语种：中文
• 作者关键词：双层辉光；择优取向；TiN薄膜；相结构
• 起始页：47
• 总页数：4
• 经费资助：国家自然科学基金（50764002）；信息材料广西重点实验室主任研究课题（桂科能0710908-06-Z）；2009年广西研究生科研创新项目（2009105950805M37）
• 刊名：表面技术
• 是否内版：否
• 刊频：双月刊
• 创刊时间：1972
• 主管单位：中国兵器装备集团公司
• 主办单位：中国兵器工业第五九研究所；中国兵工学会防腐包装分会；中国兵器工业防腐包装情报网
• 主编：吴护林
• 地址：重庆市九龙坡区石桥铺渝州路33号
• 邮编：400039
• 电子信箱：wjqkbm@163.com
• 网址：http://www.bmjs2007.com
• 卷：39
• 期：2
• 期刊索取号：P872.06 141
• 数据库收录：中国中文核心期刊；中国科技核心期刊；中国科学引文数据库统计源刊；中国期刊全文数据库全文收录期刊；中国核心期刊（遴选）数据库收录期刊；中国学术期刊综合评价数据库统计源刊；《中国学术期刊（光盘版）》入编期刊；中国期刊网全文收录期刊；中文科技期刊数据库收录期刊；《中国学术期刊文摘》收录源期刊；CEPS中文电子期刊服务全文收录期刊
• 核心期刊：中国中文核心期刊；中国科技核心期刊；中国核心期刊（遴选）数据库收录期刊

摘要

采用双层辉光等离子渗金属技术，在碳钢表面进行反应合成TiN层，研究了各种工艺参数对合成TiN层相结构的影响。结果表明：当TiN层较薄时，表面能起控制作用，TiN层的生长显示出{100}取向生长趋势，使TiN层系统自由能较低；而当TiN层较厚时，应变能占主导因素，对TiN层生长起主要控制作用，使TiN层呈现出{111}择优取向，有利于TiN层系统自由能的降低。即TiN层随厚度增加，{111}择优取向生长越明显。