Bi₂Sr₂CaCu₂O_8+δ薄膜的分子束外延法制备及结晶性

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• 出版年：2009
• 作者：张炳森；李茂林；王晶晶；孙本哲；祁阳
• 单位1：东北大学理学院材料物理与化学研究所
• 出生年：1979
• 学历：博士生
• 语种：中文
• 作者关键词：Bi₂Sr₂CaCu₂O_8+δ薄膜；分子束外延；衬底温度；臭氧分压；生长速率；错配度
• 起始页：663
• 总页数：10
• 经费资助：国家自然科学基金资助项目50572013
• 刊名：金属学报
• 是否内版：否
• 刊频：月刊
• 创刊时间：1956
• 主办单位：中国金属学会
• 主编：柯俊
• 地址：沈阳文化路72号
• 邮编：110016
• 电子信箱：jsxb@imr.ac.cn
• 网址：www.ams.org.cn
• 卷：45
• 期：6
• 期刊索取号：P750.66 350

摘要

在BiO-（Sr+Ca）O-CuO相图上的Bi₂Sr₂CaCu₂O_8+δ（Bi-2212）相附近选择不同成分，用分子束外延法制备成薄膜，利用XRD，EDS，SEM和AFM研究了成分、衬底温度和臭氧分压对Bi-2212相薄膜成相的影响，分析了生长速率和错配度对Bi-2212相薄膜质量的影响.结果表明，Bi-2212相薄膜单相生成的成分范围（原子分数）分别为Bi26.3%%—32.4%%，（Sr+Ca）37.4%%—46.5%%，Cu24.8%%—32.6%%；当衬底温度为720℃且臭氧分压为1.3×10^-3Pa时，在MgO（100）衬底上生长出质量较高的c轴外延Bi-2212相薄膜；通过调整生长速率、更换衬底和插入不同厚度的Bi₂Sr₂CuO_6+δ过渡层的方法，可以改善Bi-2212相薄膜的结晶质量、表面形貌和导电特性。