金属膜层对阴极发射的影响

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• 论文作者：王卉 ; 邵文生 ; 高玉娟 ; 杨鹏云 ; 张珂
• 年：2016
• 作者机构：北京真空电子技术研究所;
• 会议召开时间：2016-08-23
• 会议录名称：2016真空电子学分会第二十届学术年会论文集（下）
• 语种：中文
• 分类号：TN103
• 学会代码：ZKDZ
• 会议名称：2016真空电子学分会第二十届学术年会
• 会议地点：中国福建厦门
• 主办单位：中国电子学会真空电子学分会、微波电真空器件国家级重点实验室
• 学会名称：中国电子学会真空电子学分会
• 页数：5
• 文件大小：504k
• 原文格式：D
• 会议级别：全国

摘要

为了研究不同抑制发射膜层对阴极发射的影响,我们使用离子束薄膜沉淀技术在阴极表面镀覆了不同厚度的铪(HF),锆(Zr)和钽(Ta)金属膜层,对其进行脉冲发射的测试,得到了不同温度下阴极的发射电流密度,并进行了几百小时的寿命测试,最后我们对测试结果进行了讨论。

引文

[1]CRC Handbook of Chemistry and Physics,71sted.,CRC Press,Boston,1990
    [2]Wang Xiaoxia,Liao Xianheng,Luo jirun et al.Proceedings of 3~(rd)InternationalConference on Microwave and Millimeter Wave Technology,2002,206
    [3]官冲,张济忠,廖显恒,功能材料,1999,30,268