稳恒强磁场对Fe-Si复合电沉积行为的影响

详细信息    查看全文 | 下载全文 | 推荐本文 |

• 作者：钟云波龙琼周俊峰任维丽雷作胜任忠鸣
• 会议时间：2014-08-20
• 关键词：铁硅合金颗粒 ; 复合电沉积行为 ; 稳恒强磁场 ; 硅含量 ; 镀层形貌
• 作者单位：上海现代冶金与材料制备重点实验室,上海大学,上海,200072
• 母体文献：第二届全国电磁冶金与强磁场材料科学会议论文集
• 会议名称：第二届全国电磁冶金与强磁场材料科学会议
• 会议地点：包头
• 主办单位：中国金属学会电磁冶金与强磁场材料科学分会
• 语种：chi

摘要

采用软磁性Fe-Si合金颗粒以及弱抗磁性Si颗粒在稳恒磁场下采用复合电沉积法制备Fe-Si镀层,考察了磁感应强度(B)、磁场与电流(J)方向以及电极排布方式对不同颗粒在电镀过程的迁移行为的影响.研究结果表明,当采用水平电极平行磁场电镀时(B||J),由于微观MHD效应以及梯度磁场力的作用,Fe-Si颗粒在镀层表面迁移聚集逐渐形成"圆丘状"突出物,而且随着Fe-Si颗粒自身硅含量的升高,"圆丘状"突出物半径显著降低;同时,由于微观MHD效应造成的溶液扰动,影响了颗粒进入镀层,导致镀层硅含量随着磁场强度的升高而下降.采用垂直磁场竖直电极电镀时(B⊥J),在宏观MHD效应以及梯度磁场力的作用下Fe-Si颗粒在镀层表面出现沿着MHD流动方向排列的"条纹状"突出物,而这一现象对纯Si颗粒并不明显.