真空镀膜中膜厚均匀性的研究

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• 作者：何虎
• 会议时间：2010-10-01
• 关键词：光学膜系 ; 真空镀制 ; 工艺参数 ; 膜厚均匀性
• 作者单位：山东北方光学电子有限公司 山东泰安271000
• 母体文献：2010微制造技术及数字化工艺学术研讨会论文集
• 会议名称：2010微制造技术及数字化工艺学术研讨会
• 会议地点：北京
• 主办单位：中国兵工学会
• 语种：chi
• 分类号：O48;TN3

摘要

光学膜系的膜层厚度的均匀性是指膜层厚度随着基板表面位置变化而变化的情况.膜厚均匀性不好,膜系特性会遭到严重的破坏.影响膜厚均匀性的因素比较多,而且相互之间有一定的制约作用.通过反复实验修正挡板、烘烤温度、蒸发速率、充气压强等工艺因素,最终确定工艺参数以达到比较理想的膜厚均匀性.