非对称双极脉冲反应磁控溅射制备TiN/NbN多层膜

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• 作者：池成忠徐俊波陈良贤纪殿友李成明吕反修
• 会议时间：2009-10-01
• 关键词：纳米多层膜 ; 力学性能 ; 调制周期 ; 非对称双极脉冲反应 ; 磁控溅射 ; X射线衍射
• 作者单位：池成忠(北京科技大学材料科学与工程学院,北京 100083 廊坊恒宇工具有限公司,河北廊坊 065000)徐俊波,陈良贤,李成明,吕反修(北京科技大学材料科学与工程学院,北京 100083)纪殿友(廊坊恒宇工具有限公司,河北廊坊 065000)
• 母体文献：2009中国博士后材料与冶金科学大会论文集
• 会议名称：2009中国博士后材料与冶金科学大会
• 会议地点：北京
• 主办单位：中国博士后科学基金会
• 语种：chi

摘要

采用非对称双极脉冲磁控溅射制备了一系列不同调制周期的TiN/NbN纳米多层膜.利用X射线衍射分析(XRD)、纳米压痕仪、扫描电子显微镜(SEM)表征了薄膜的微观结构、力学性能和断口形貌。结果表明,在调制周期为19.86nm时,纳米压痕硬度达到43 GPa。