硅元素在TiAl合金熔模铸造界面反应中的扩散行为

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• 作者：贾燚肖树龙徐丽娟田竞陈玉勇
• 会议时间：2013-12-08
• 关键词：钛铝合金 ; 熔模铸造工艺 ; 硅元素 ; 界面反应 ; 扩散行为
• 作者单位：贾燚,肖树龙,陈玉勇(哈尔滨工业大学金属精密热加工国家级重点实验室,哈尔滨150001;哈尔滨工业大学材料科学与工程学院,哈尔滨150001)徐丽娟,田竞(哈尔滨工业大学材料科学与工程学院,哈尔滨150001)
• 母体文献：第十五届全国钛及钛合金学术交流会论文集
• 会议名称：第十五届全国钛及钛合金学术交流会
• 会议地点：哈尔滨
• 主办单位：中国有色金属学会
• 语种：chi

摘要

通过在TiAl合金熔模铸造用陶瓷型壳ZrO2面层中添加纯Si元素粉末,研究Ti-46Al和Ti-46Al-7Nb两种合金与纯ZrO2面层与含有Si面层的反应界面.结果表明:4种界面的界面反应扩散层的厚度都约为200μm,但是Si元素的扩散能力远大于Zr的,并与Ti发生反应,可见最深处的反应物离界面约为50μm.