光辐射对水溶性偶氮染料还原脱色反应的影响

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• 作者：董永春董文静陈勇董正洪葛晓青
• 会议时间：2007-04-01
• 关键词：还原脱色剂 ; 偶氮染料 ; 光还原脱色降解 ; 汞灯辐射光 ; 紫外可见光谱法
• 作者单位：天津工业大学,材料科学与化学工程学院,天津,300160
• 母体文献：第四届全国清洁生产节能降耗新技术交流会论文集
• 会议名称：第四届全国清洁生产节能降耗新技术交流会
• 会议地点：安徽黄山
• 主办单位：中国纺织工程学会
• 语种：chi

摘要

本研究以硼氢化物和硫酸盐混合物为还原脱色剂,对17个水溶性阴离子偶氮染料进行光还原脱色降解,考察汞灯辐射光对其还原脱色反应的影响,并运用紫外可见光谱法进行分析.结果表明,辐射光对水溶性偶氮染料的还原脱色反应具有明显的促进作用,6种目标染料在光辐射下的脱色率也明显高于室内条件下的脱色率,两者之间的差距随着反应时间的延长而增加,尤其以直接染料的表现更为突出.紫外可见光谱显示,在光还原脱色反应中,染料分子中的共轭体系和芳香环结构均遭到破坏.