铜表面吡咯烷二硫代氨基甲酸铵自组装膜的电化学研究
- 作者：廖强强岳忠文沈曦郁镇寅周国定周琪
- 会议时间：2009-09-14
- 关键词：金属防腐 ; 电化学保护 ; 自组装膜 ; 电极过程 ; 吡咯烷二硫代氨基甲酸铵
- 作者单位：廖强强(上海电力学院 上海高校电力腐蚀控制与应用电化学重点实验室, 上海200090 同济大学 环境科学与工程学院,上海 200092)岳忠文,沈曦,郁镇寅,周国定(上海电力学院 上海高校电力腐蚀控制与应用电化学重点实验室, 上海200090)周琪(同济大学 环境科学与工程学院,上海 200092)
- 母体文献：第五届全国腐蚀大会论文集
- 会议名称：第五届全国腐蚀大会
- 会议地点：北京
- 主办单位：中国腐蚀与防护学会
- 语种：chi
摘要
本文以吡咯烷二硫代氨基甲酸铵(APDTC)在铜表面制备了自组装单分子膜(SAMs), 用电化学方法研究在0.5 mol·L-1 HCl介质中APDTC SAMs对铜的缓蚀作用。结果表明, APDTC分子易在铜表面形成稳定的APDTC 自组装膜, APDTC SAMs 铜电极在0.5mol·L-1 HCl溶液中的阻抗值随着组装的时间延长和APDTC浓度的增加而逐渐增大, 缓蚀效率可到90%以上。