氮化铝基片超精密加工的实验研究
- 出版年：2005
- 作者：周兆忠；袁巨龙；郑家锦；吕冰海
- 单位1：浙江工业大学浙西分校
- 单位2：浙江工业大学精密工程研究室
- 出生年：1968
- 学历：硕士生
- 职称：讲师
- 语种：中文
- 作者关键词：氮化铝（AIN）基片；超精密加工；研磨；抛光；表面粗糙度
- 起始页：36
- 总页数：4
- 经费资助：国家自然科学基金（504751I9）；浙江省自然科学基金（M503062，Y104494）；浙江省教育厅科研项目（20041320）；衢州市科技局计划项目（20041015）资助
- 刊名：金刚石与磨料磨具工程
- 是否内版：否
- 刊频：双月刊
- 主办单位：郑州磨料磨具磨削研究所
- 主编：王琴
- 地址：郑州市华山路121号
- 邮编：450007
- 电子信箱：diamond@371.net
- 期：2
- 期刊索取号：P666.06 836
- 数据库收录：全国中文核心期刊；中国科技论文统计源期刊；Ei收录用刊；CA收录用刊
- 核心期刊：全国中文核心期刊
摘要
氮化铝材料具有较高的热导率和良好的介电性能，机械强度高，热膨胀系数与半导体硅材料相近，非常适于制造大功率或快速半导体器件的散热基片和封装材料。本文采用游离磨料加工方法对氮化铝基片表面进行了研磨、抛光，讨论了不同加工参数对试件表面粗糙度和材料去除率的影响。采用表面粗糙度仪和厚度仪分别对超精密加工后AIN基片的表面粗糙度及去除厚度进行了测量。实验结果表明，在本实验条件下可以获得表面粗糙度Ra为8nm的超光滑表面。实验还采用XJZ-5型电子显微镜对加工过程中AIN的表面结构进行了观察，分析了不同超精密加工阶段的材料去除机理，同时发现晶粒间孔隙会降低AlN基片的可加工性能。