阳极线性离子源辅助磁控溅射沉积氮化钛薄膜的研究

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• 出版年：2010
• 作者：卢春灿；聂朝胤；潘婧；贾晓芳；谢红梅；杨娟
• 单位1：西南大学材料科学与工程学院
• 出生年：1983
• 学历：硕士研究生
• 语种：中文
• 作者关键词：阳极线性离子源；磁控溅射；低温；氮化钛；结合强度
• 起始页：29
• 总页数：4
• 经费资助：重庆市科技攻关计划项目（CSTC2008AC4017；CSTC2009AB6127）
• 刊名：材料导报
• 是否内版：否
• 刊频：半月刊
• 创刊时间：1987
• 主管单位：重庆西南信息有限公司（原科技部西南信息中心）
• 主办单位：重庆西南信息有限公司
• 主编：张明
• 地址：重庆市渝北区洪湖西路18号
• 邮编：401121
• 电子信箱：mat-rev@163.com；matreved@163.com；maeditor@gmail.com
• 网址：http://www.mat-rev.com
• 卷：24
• 期：10
• 期刊索取号：P822.06 432
• 数据库收录：中文核心期刊；中国科学引文数据库来源期刊；中国科技论文统计源期刊
• 核心期刊：中文核心期刊

摘要

采用阳极线性离子源辅助磁控溅射技术，通过改变氮气流量以及离子源功率，在低温（150℃）条件下以不锈钢为基体制备了氮化钛薄膜。采用X射线衍射技术、显微硬度计、球盘式摩擦磨损仪、压痕法研究了薄膜的结构、硬度、耐磨性和结合强度，结果表明，采用阳极线性离子源辅助磁控溅射法在150℃低温条件下能制备出具有良好特性的金黄色的氮化钛薄膜。当氮气流量为20sccm、离子源功率为300W时，制备的薄膜硬度达到2039HV，且薄膜的耐磨性与结合强度最佳。离子的轰击作用使薄膜的力学性能得到了较大改善。