纯钛表面电解液微弧碳氮化制备碳氮化钛厚膜

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• 出版年：2008
• 作者：李新梅；孙文磊；憨勇；刘炳
• 单位1：新疆大学机械工程学院机械工程博士后科研流动站
• 出生年：1971
• 学历：博士
• 职称：副教授
• 语种：中文
• 作者关键词：电解液微弧碳氮化；Ti；Ti（C_χN_1-x）；膜
• 起始页：1105
• 总页数：6
• 经费资助：国家自然科学基金项目50671078和国家高技术研究发展计划项目2006AA03Z0447资助
• 刊名：金属学报
• 是否内版：否
• 刊频：月刊
• 创刊时间：1956
• 主办单位：中国金属学会
• 主编：柯俊
• 地址：沈阳文化路72号
• 邮编：110016
• 电子信箱：jsxb@imr.ac.cn
• 网址：www.ams.org.cn
• 卷：44
• 期：9
• 期刊索取号：P750.66 350
• 数据库收录：第三届国家期刊奖

摘要

采用电解液微弧碳氮化技术（PECN），在纯钛试样表面沉积出较厚且与基体结合牢固的多孔纳米Ti（C_xN_1-x）改性层，研究了改性层结构和组成随PECN处理时间的演变规律.结果表明：随放电处理时间延长，PECN-Ti（C_xN_1-x）膜层厚度、膜层中C/N的原子比以及微孔直径皆增加.处理150min时，Ti（C_xN_1-x）膜层厚度可达15μm，且膜层是由晶粒尺寸为40—60nm的纳米晶粒组成.处理过程中有氢渗入，并在Ti（C_χN_1-x）层下面形成富含TiH2的过渡层.后期的真空退火处理可以将氢除去使TiH₂完全分解，而不影响表面Ti（C_χN_1-x）膜的成分和形貌.