氧气流量对射频磁控溅射制备Cu₂O薄膜性能的影响

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• 出版年：2010
• 作者：林龙；李斌斌；鲁林峰；江丰；沈鸿烈
• 单位1：南京航空航天大学材料科学与技术学院
• 出生年：1988
• 学历：硕士研究生
• 语种：中文
• 作者关键词：氧化亚铜；磁控溅射；电阻率；光透射率；氧气流量
• 起始页：1221
• 总页数：6
• 经费资助：国家高技术研究发展计划（863计划）（2006AA03Z219）；南京航空航天大学基本科研业务费专项科研项目(NS2010160)
• 刊名：人工晶体学报
• 是否内版：否
• 刊频：双月刊
• 创刊时间：1972
• 主管单位：中国建筑材料联合会
• 主办单位：中材人工晶体研究院
• 主编：沈德忠
• 电子信箱：jtxbbjb@126.com
• 网址：www.jtxb.cn
• 卷：39
• 期：5
• 期刊索取号：P311.06105
• 核心期刊：中文核心期刊；《EI》核心期刊

摘要

通过磁控溅射方法在玻璃衬底上制备Cu₂O薄膜，采用X射线衍射(XRD)、分光光度计、原子力显微镜(AFM)和X射线光电子能谱(XPS)等研究了氧气流量对Cu₂O薄膜性能的影响。结果表明：氧气流量为4.2sccm时，薄膜为单相的Cu₂O，具有较高的结晶质量和可见光透过率，光学带隙为2.29eV，薄膜的导电类型是p型且空穴浓度为2×10¹⁶cm^-3。通过XPS能谱分析Cu2p_3/2和O1s结合能，确定了薄膜中Cu以+1价存在。