氧化还原条件变化对上覆水体中溶解有机质的三维荧光光谱特征影响
- 出版年：2010
- 作者：朱维晃；黄廷林；张亚宁
- 单位1：西安建筑科技大学，西北水资源与环境生态教育部重点实验室
- 出生年：1977
- 职称：副教授
- 语种：中文
- 作者关键词：上覆水体；三维荧光光谱；氧化还原条件
- 起始页：3272
- 总页数：5
- 经费资助：国家自然科学基金项目(50830303，40903042)；教育部“长江学者与创新团队发展计划”创新团队项目（IRT0853）；教育部博士点基金项目(20096120120012)；陕西省教育厅基金项目(08JK329)；陕西省自然科学基金项目(2007E241)；西建大青年基金项目(QN0813)；西建大人才科技基金项目(RC0613)资助
- 刊名：光谱学与光谱分析
- 是否内版：否
- 刊频：月刊
- 创刊时间：1981
- 主管单位：中国科学技术学会
- 主办单位：中国光学学会
- 主编：黄本立
- 电子信箱：chngpxygpfx@vip.sina.com
- 网址：http://www.gpxygpfx.com
- 卷：30
- 期：12
- 期刊索取号：P342.06220
- 数据库收录：已被国内外CSCD，SCI,Ei,CA,AA,PЖ,MEDLINE等文献机构收录
- 核心期刊：本刊系中国物理类、化学类核心期刊
摘要
利用三维荧光光谱(3EEMs)技术，考察了不同氧化还原条件对上覆水体中溶解有机质的三维荧光光谱特征的影响。好氧条件下上覆水体中DOM的荧光指数要高于厌氧条件，说明在不同的氧化还原条件下，上覆水体中DOM来源和组成均存在一定的差异性。上覆水体的三维荧光光谱特征也存在显著差异；好氧条件下，上覆水体中的类蛋白荧光峰强度均高于腐殖质类荧光峰强度，且三维荧光光谱图显示腐殖质类DOM存在氧化降解现象。厌氧条件下，上覆水体中腐殖质类荧光峰的强度随培养天数逐渐增加，当厌氧培养时间为21d，C和D荧光峰的强度已分别上升至初始的3.51和3.78倍。在不同的氧化还原条件下，类蛋白和类腐殖质类DOM荧光峰位置和强度的变化，表明不同类型DOM的生物可利用性程度和在沉积物-水界面间迁移转化特征的差异性。